Four d'oxydation thermique de silicium
Four d'oxydation thermique de silicium à basse pression (fonctionnement jusqu'à 1000°C). Ce système permet la fabrication de couches mince de silicium de quelques nm à une centaine de nm. L'indice moyen des couches mesurées @ 635nm est de 1,457.
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Structure de rattachement
L’Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL) est une Unité Mixte de Recherche (UMR 5270) dont les tutelles sont le CNRS, l’ECL, l’INSA, l’Université Lyon 1 et CPE Lyon. L’INL a pour vocation de développer des recherches technologiques multidisciplinaires dans le domaine des micro et nanotechnologies et de leurs applications. Les recherches menées s’étendent des matériaux aux systèmes, laboratoire s’appuie sur la plate-forme technologique lyonnaise NanoLyon.
Autres Plateformes de la structure
Plateforme : NanoLyon
Fédération de recherche :
FRAMA, C2I@L
Tutelle de la plateforme :
UCBL-CNRS-INSA-ECL-CPE
1 rue E. Fermi
Bâtiment Irène Joliot Curie
69622 Villeurbanne
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Ouvert aux entreprises :
