bâti de lithographie par nanoimpression en mode « Step and Repeat » NPS300
Le système de lithographie dispose de 2 têtes d’impression (UV NIL@365 nm et Thermique-RT to 450°C) et permet la réplique de motifs structurés (sur des zones de 2 à 40 mm²) sur un tampon soit en matériau transparent (PDMS ou verre ou autre plastique), soit en matériau opaque (silicium, métal ou autre) vers un substrat (du cm² jusqu’à la plaque de 200 mm de diamètre) enduit soit d’un matériau UV sensible, soit d’un matériau thermo sensible. L’équipement permet de répliquer les mêmes motifs d’un même moule plusieurs fois pas à pas (mode « Step and Repeat »). La réplication des motifs les plus petits sera possible pour des dimensions inférieures à 20nm et des raccordements de champ entre chaque impression les plus faibles possible ne dépassant pas 20µm dans les deux directions X et Y mps.
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Structure de rattachement
L’Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL) est une Unité Mixte de Recherche (UMR 5270) dont les tutelles sont le CNRS, l’ECL, l’INSA, l’Université Lyon 1 et CPE Lyon. L’INL a pour vocation de développer des recherches technologiques multidisciplinaires dans le domaine des micro et nanotechnologies et de leurs applications. Les recherches menées s’étendent des matériaux aux systèmes, laboratoire s’appuie sur la plate-forme technologique lyonnaise NanoLyon.
Autres Plateformes de la structure
Plateforme : NanoLyon
Fédération de recherche :
FRAMA, C2I@L
Tutelle de la plateforme :
UCBL-CNRS-INSA-ECL-CPE
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69622 Villeurbanne
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Ouvert aux entreprises :
