Système de gravure sèche par ICP

Micro/nano fabrication > Gravure sèche

Echantillons : 10 et 200 mm.
6 lignes de gaz réactifs (seuls ou mélangés) Cl2/H2/Ar/SF6/CHF3/O2/N2
Source ICP planaire à spirale triple (13.56 MHz, 100 à 1200 W). Cathode RF (13.56 MHz, 600 W) -Gamme de température [-30°C ; +250°C].
Suivi de gravure interférométrique à 670 nm.

Cet équipement Nanolyon est localisé sur le site de l'Ecole Centrale de Lyon à Ecully (INL-Nanolyon Bâtiment F7)

 

Contactez le Responsable

04 72 44 62 82

Structure de rattachement

INL

Rue Enrico Fermi
69622 Villeurbanne
04 72 44 62 82

d'informations : Site internet

L’Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL) est une Unité Mixte de Recherche (UMR 5270) dont les tutelles sont le CNRS, l’ECL, l’INSA, l’Université Lyon 1 et CPE Lyon. L’INL a pour vocation de développer des recherches technologiques multidisciplinaires dans le domaine des micro et nanotechnologies et de leurs applications. Les recherches menées s’étendent des matériaux aux systèmes, laboratoire s’appuie sur la plate-forme technologique lyonnaise NanoLyon.

Autres Plateformes de la structure

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Plateforme : NanoLyon

Mazurczyk Radoslaw

Responsable Centrale Micro- Nanofabrication Ecully

Structure de rattachement : INL
Fédération de recherche :

FRAMA, C2I@L


Tutelle de la plateforme :

UCBL-CNRS-INSA-ECL-CPE


1 rue E. Fermi
Bâtiment Irène Joliot Curie
69622 Villeurbanne

Prise en Charge Totale :
Formation :
Accès avec Assistance Légère :
Ouvert aux académiques :
Ouvert aux entreprises :

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